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低成本高效率連續鍍膜生産線

發布時間:2019-10-08 | 作者: |來源: | 浏覽次數:

主要技術指标:

基片尺寸:1100×1300×0.5~1.1

生産節拍:30S/架

可完成膜系:

低溫ITO、金屬膜、氧化物膜生産線特點:

    低成本、高效率,30s節拍,機械手自動上下片,廣泛應用于TP、LCD、TFT、FPD、PDP等諸多行業。


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